TOPPAN 米IBMと２ナノ半導体の回路原版を共同開発

TOPPANホールディングス（本社：東京都文京区）のグループ会社、トッパンフォトマスク（所在地：東京都港区）は２月７日、米IBM（本社：米国・ニューヨーク州）と半導体のウエハーに回路を焼き付ける際に使う原版「フォトマスク」で、最先端の回路線幅２ナノメートル（ナノは10億分の１）向けの製品の共同開発契約を締結したと発表した。これに基づき2024年２月から５年間、アルバニー・ナノテク・コンプレックス（所在地：米国・ニューヨーク州）とトッパンフォトマスクの朝霞工場（所在地：埼玉県新座市）で開発を進める。2026年の量産開始を目指す。